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| 編號 | 包裝 | 參數 | 價格 |
| NF165 | 1 盒 | 基底尺寸: 6 mmx8 mm | 詢價 |
產品名稱
中文名稱: CVD氧化鋁基底單層二硫化鉬
英文名稱：Single Layer MoS2?on??Al2O3
性質
形態：薄膜
參數
基底：氧化鋁
基底尺寸：6 mm*8 mm
片徑范圍：20-50 μm
厚度：0.6～0.8 nm
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應用
最新推出CVD法制備的單層二硫化鉬，相比較鋰插層制備的單層二硫化鉬，該產品具有缺陷少，層數可控，優異的光學性質，是研究層數和熒光效應和制備器件的優異材料，歡迎咨詢。
